中国芯片再爆好消息！国产光刻机迎来新突破：开始攻关65nm技术

原标题：中国芯片再爆好消息！国产光刻机迎来新突破：开始攻关65nm技术

众所周知，只要一说起台积电，相信大家也都是非常的熟悉了，作为全球芯片代工领域最强的芯片巨头，尤其是在高端芯片制造领域，一直以来都是处于垄断的地位，但实际上台积电之所以在芯片制造领域如此出色，很大程度上也是得到了ASML高端光刻机设备的支持，要知道在芯片制造整个流程中，光刻机光刻的过程几乎占到了40%甚至是更高的比例，这就不难看出，一台光刻机设备对于芯片制造多地有多么重要，但目前在光刻机设备领域中，我国自主研发的光刻机设备依旧相当的落后，目前过呢最强的光刻机技术依旧还停留在90nm芯片制造水平中，处于全球最低端的芯片制造水准。

但近日，我国光刻机研究终于传来了好消息，国内企业正在攻关65nm工艺的光刻机设备，目前已经取得了一定的进展，这意味着我国的光刻机设备也即将进入到中端市场领域，迎来了新突破，随着国产光刻机分辨率的提高，从90nm进入到65nm时代，也将会进一步缩小我们与ASML之间的差距；

但实际上，即便是国产光刻机能够攻克65nm技术难题，成功量产65nm光科技设备，但要知道我们国产光刻机目前依旧还是处于严重落后的地步，当然针对这种现象，实际上与我们在光刻机设备研发起步时间、技术、人才等等方面，也是有着直接的关联，例如在光刻机技术研发上起步较晚，同时还遭到了西方国家的技术封锁，在关键技术人才方面的积累较少等等，综合之下，也就直接造就了国产光刻机技术长期处于落后的态势之中；

而起步较早的ASML在光刻机设备领域，在2004年全球芯片制造工艺都进入到了全新的瓶颈期，而作为全球知名的芯片代工企业，为了能够进一步需求突破，所以也是联合了ASML，制造了一台以水为介质的光刻机设备，相对比过往以空气为介质的光刻机设备，在分辨率方面也是有着更加优异的表现，所以ASML也凭借这种以水为介质的浸润式光刻机设备，成为了全球最强的芯片设备制造企业，一举打败了当时日本尼康、佳能等知名企业，而台积电方面自然也是得到了ASML更多的关照，后来也直接奠定了台积电在芯片代工领域的霸主地位。

从ASML、台积电的发展轨迹，我们也不难看出，其实在光刻机设备、芯片代工企业之间，也是存在一种相互促进的作用，光刻机设备厂商通过与芯片制造厂商的深度合作，在芯片制造工艺、技术等方面，无疑也将会有更优的解决方案，所以看到这里，大家也就不难理解，为何国产高端光刻机设备技术会长期处于落后，很大程度上也是与国内没有先进的芯片制造企业有着很大的关联。

写在最后：随和中芯国际的不断突破，不断地缩小与台积电、三星之间的差距，未来或许也将会直接复制ASML、台积电这种“成功模式”，让国产光刻机以及芯片制造水平都得到极大的提升，让国产芯片实现真正的崛起。对此各位小伙伴们，你们怎么看呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！