台媒：三星3nm GAA工艺良率仍远低于客户要求
据DIGITIMES报道，有报道称，三星电子的3nm GAA工艺良率仍远远落后于其目标。
图源：网络
根据一份报道，三星正在努力提高其3nm GAA工艺良率，该工艺良率刚刚达到10%至20%之间。三星4nm工艺制造的良率也不尽如人意，仅为30%-35%。
市场消息人士认为，三星第一代3nm GAA工艺将首先用于三星自研芯片的制造，该工艺不太可能被外部客户采用。但该消息人士称，三星的第二代3nm工艺将为外部客户的芯片设计做好准备，预计明年开始量产。
该消息人士指出，台积电在转向GAA晶体管技术时是否会面临良率问题还有待观察。台积电极有可能拥有基于GAA的2nm，目标是在2025年投产。（隐德莱希）
,ic1508,370kk,长生女仙医小说免费阅读 http://www.cityruyi.com/lm-2/lm-4/9188.html免责声明：本站所有信息均搜集自互联网，并不代表本站观点，本站不对其真实合法性负责。如有信息侵犯了您的权益，请告知，本站将立刻处理。联系QQ：1640731186
- 标签：,世界十大摇滚乐队,02601,10万元投资项目
- 编辑：马可
- 相关文章
-
台媒：三星3nm GAA工艺良率仍远低于客户要求
据DIGITIMES报道，有报道称，三星电子的3nm GAA工艺良率仍远远落后于其目标。 图源：网络 根据一份报道，三星正在努力提高其3nm…
-
传三星电子3纳米工艺试产良率仅两成
据台媒报道，三星电子规划今年实现3纳米制程芯片量产，不过业内传言当前工艺（3GAE）的试产良率不尽如人意，仅达到约两成，低良率带…
- 显示驱动芯片需求疲软，台企观望心态浮现
- 外媒：法国ICAPE集团收购德国PCB供应商SAFA2000
- 联发科推出校企合作新课程，跨专业选修可获入职机会
- 洁净室工程行业进入“微利时代”，柏诚、圣晖、亚翔将如何突围？
- 【IPO价值观】微导纳米重启科创板IPO背后：只因受对赌协议“逼迫”？
TAGS标签更多>>
网站热点更多>>
热网推荐更多>>