即使没有7nm光刻机也行？中芯国际突然宣布，中国芯迎来最大希望

原标题：即使没有7nm光刻机也行？中芯国际突然宣布，中国芯迎来最大希望

导语：重大进展！中芯国际突然宣布，中国芯的希望！

大家都知道，华为高端芯片的研发能力是很强的，但在芯片生产方面不得不依靠强大的台积电。由于不久前，美国计划将“源于美国技术标准”的25%下降到10%，受此影响，华为基于14nm中、低端芯片并未达到要求，因此，台积电或将对华为14nm做出措施。值得庆幸的是，目前基于华为7nm的高端芯片并未受到影响，可以照常生产代工。在此时间节点上，台积电以库存为由消掉了华为20%的订单量，这不得不引起外界的怀疑。

巧合的是，中芯国际也已经从台积电那里抢到了不少华为的14nm订单。中芯国际作为我国芯片企业的领头羊，是在2019年最后几个月的时间宣布14nm工艺芯片进入量产阶段这一好消息的，14nm工艺的量产对我国芯片行业的发展来说意义重大。因为，正是由于我国的“缺芯少魂”，在2018年才差点导致我国企业中兴一夜之间陷入”瘫痪“，也正是因为此我国民族企业华为至今仍在美国的”实体清单“当中。

然而，中芯国际又给我们带来了好消息，虽然中芯国际14nm工艺刚刚量产数月，但根据其财报显示，该项业务已经为中芯国际创造5200万以上的营收。这是国内最大的晶圆代工厂中芯国际在Q4季度中已经量产14nm工艺，贡献了1%的营收，据说该工艺能够满足国内95%的芯片生产。不过中芯国际唯一的问题就是，产能相比台积电差距还是很大，去年底也就生产了1000片晶圆左右。

除此之外，还有一个好消息，中芯国际突然宣布，虽然14nm工艺相比台积电、三星的工艺依然存在2-3代的差距，而且满足不了制造当前最高性能水平的处理器，所以中芯国际还在发展更新一代的N+1、N+2工艺。根据中芯国际的技术大牛梁孟松对N+1、N+2代工艺的透露，N+1工艺与14nm相比，性能提升20%，功耗降低57%，逻辑面积缩小63%，SOC面积减少55%。按照面积缩减55%的说法，这就是芯片密度提升了一倍，换言之也就是14nm的密度提升了一倍，也就是7nm工艺。

这是否意味着，即使没有7nm光刻机也能生产于其相似的芯片？不过N+1代工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺非常相似，但性能不如，业界标准是提升35%，因此中芯国际的N+1工艺主要开始面向低功耗的。N+1之后还会有N+2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于性能及成本，N+2显然是面向高性能的，成本也会增加。从梁孟松公布的情况来看，这是中国芯片产业的重大进展，同时也是中国芯迎来的最大希望！

大家都知道，中国芯的工艺水平仍然与世界顶端水平存在着较大的差距，因此中国大力扶持中国芯片产业的发展。在芯片工艺的研发方面，中芯国际可谓是经历了无数坎坷。仅从中芯国际花费1.5亿美元，从荷兰ASML预定了一台7nmEUV光刻机，由于美国为了限制中国芯片的发展，持续对荷兰施压，至今这台7nmEUV光刻机没能够到中芯国际的手上。不出意外的话，这台光刻机应该在2019年年底就到了中芯国际的手中，而中芯国际也能早一步进入到高端芯片7nm工艺的生产和研发当中。

虽然中芯国际研发的N+1和N+2工艺能够取代7nm工艺，但是真正的实现规模性量产还需要等到2020年底。如今14nm芯片仍然作为现代医疗、汽车、智能物联等的主流芯片，而中芯国际14nm芯片的产能也在急速爬坡当中，预计将在今年3月达到4K，7月达到9K，12月达到15K。以目前中芯国际的发展速度来看，也会有越来越多的企业开始找到中芯国际开始合作，相信在不久的将来定能正式跃居全球一线水平。到了那个时候，美国要是再以芯片来阻止中国企业的发展，怕是已无可能。不知大家对新一代工艺N+1和N+2有有什么想说的？谈谈你们的看法！